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三星著手研發光刻膠材料并引入8英寸晶圓光刻 完成時間尚待公布

據外媒消息,為擺脫日本企業的壟斷和封鎖,三星SDI為其研究中心的光刻膠開發引入了8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設備。

芯研所整理報道,在半導體生產領域,韓國三星絕對是巨頭中的巨頭,然而巨頭有時候也受制于人,其中用于極紫外(EUV)光刻工藝的光刻膠材料,一直是這家巨頭的“軟肋”之一。曾經在2019年,被日本企業限制供貨后,導致生產線停滯。

為了擺脫這一限制,據外媒消息,三星SDI正在為其研究中心的光刻膠開發,引入了8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設備,這也意味著三星終于開始朝著光刻膠材料進行攻克和研發了。

但三星SDI并未透露光刻膠開發計劃的啟動和完成時間。該公司僅表示,在完成光刻膠開發后,不僅將向三星電子提供新產品,還將向其他半導體公司及使用光刻膠的公司供貨。三星SDI的一位高管表示,“我們一直在開發各種類型的光刻膠,包括 EUV光刻膠。”不過,光刻膠的商業化時間及具體細節還未敲定。

(作者:martin 責編:martin)

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